即将面世的英伟达GPU将使用三星的7nm EUV节点

Nvidia似乎将在2019年专注于Turing显卡 ，很快我们就会发布RTX 2060和RTX Mobile系列的消息，因此下一代似乎还很遥远。 不过，最近的报道表明，未来的Nvidia GPU将使用三星的7nm EUV节点进行开发。

Nvidia将在其下一代图形卡上使用Smasung的7nm EUV技术

三星的7nm EUV节点与台积电7nm的不同之处在于，它采用了EUV （极紫外）技术，台积电计划在其7nm +工艺中实施该技术。 用外行的话来说，EUV光刻使用波长要小得多的光来帮助提供更精确的硅细节，从而使芯片生产更加精确，并能够创建更小的工艺节点。

迁移到较新的工艺节点可带来许多好处，包括能够封装更多的晶体管，更高的性能和能效。 即使不对GPU架构进行重大调整，仅此一项更改就可使Nvidia的下一代产品胜过Turing。

首批Nvidia 7nm显卡将于2020年问世

尽管Nvidia在过去的几代人中主要使用TSMC，但该公司对三星提供的技术并不陌生。 Nvidia的GTX 1050和GTX 1050 Ti基于三星的14nm硅 ，而三星的低功耗GT 1030也使用韩国公司的光刻技术。

也许我们会在2020年看到新一代Nvidia 7nm显卡。

图像源Overlock3D