英特尔计划中的7nm进步将比预期更快

英特尔的10nm制造节点原本计划于2016年下半年开始量产，但今天该公司几乎没有使用。 目前，该工艺仅用于生产少量CPU，并计划于2019年晚些时候进行大批量生产。英特尔遭受10nm工艺延迟数年之久，这对生产线产生了重大影响。公司及其业务的产品。 但是， 英特尔的10nm可能是一个短暂的节点，因为该公司的7nm技术有望按其原定计划推出。

英特尔使用EUV开发7nm的问题要少得多

英特尔表示，它为其10纳米制造工艺设定了过于激进的晶体管规模密度目标，这就是其开发存在问题的原因 。 英特尔的10nm制造技术仅依赖于深紫外线光刻（DUVL），其激光器的工作波长为193nm。 为了实现Intel计划在10nm处实现的精细功能尺寸，该过程必须大量使用多重图案。 据英特尔称，该过程的一个问题恰恰是它大量使用多重图案。

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相比之下，英特尔的7nm生产技术将对选定的层 使用 13.5nm的激光波长的极紫外光刻（EUVL）， 从而减少对某些金属层的多重图案的使用 ，因此简化生产时间并缩短周期。 看起来，7nm制造工艺是与10nm技术分开开发的，并且是通过不同的设备开发的 。 因此，该公司表示，其开发正在进行中，预计将根据英特尔未公布的路线图进入HVM。

英特尔重申，该公司计划在2019年使用其10纳米制程技术开始为客户的CPU进行HVM生产，此后不久将推出数据中心产品。 也就是说，很明显，英特尔并没有跳过已经发布的10nm产品中的任何一个，但这意味着它的7nm产品可能比我们预期的更早进入市场。

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