三星已经准备好在8纳米制程

三星已经准备好8纳米

三星已正式透露，其新的8nm LPP （低功耗增强版）制造工艺已准备就绪，可用于首批芯片的生产 ，该新工艺的性能比该公司当前的10nm工艺提高了10％。晶体管面积减少多达10％ 。

该节点是对三星现有10nm生产节点的改进 ，该工艺实际上使该工艺达到10nm +，但是名称更改适用于市场营销 ，因为我们记得涉及到的标准没有测量晶体管的尺寸，以便每个铸造厂都能表达不同的含义。这意味着两家公司的制造工艺可能很不相同，尽管它们的nm显然相同。

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这种新工艺节点的优势在于它建立在三星现有技术的基础之上，从而使三星可以通过调整其现有的10nm技术来快速加速8nm生产 。三星还能够提前三个月通过该新节点的资格认证，从而使该公司能够提前生产8nm功能芯片。

8nm将成为三星凭借其7nm制造节点转向EUV （极紫外光 ） 之前的最后节点 ， 为摩尔定律开创了一个新时代 ，使制造商能够突破某些限制。挫败行业进步。

7LPP将成为第一种使用EUV光刻解决方案的半导体工艺技术。三星和ASML的共同努力开发了250W最大EUV功率，这是在大规模生产中插入EUV的最重要的里程碑。 EUV光刻技术的部署将打破摩尔定律规模的障碍，为一代又一代的单纳米半导体技术铺平道路。

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